多潘立酮混懸液高剪切膠體磨，混懸液膠體磨，口服混懸液膠體磨，外用混懸液膠體磨，注射混懸液膠體磨，阿苯達唑混懸液膠體磨，安達鋁鎂加混懸液膠體磨，布地奈德混懸液膠體磨，布洛芬混懸液膠體磨，蒙脫石混懸液膠體磨，磺胺二甲嘧啶混懸液膠體磨
多潘立酮混懸液，也叫嗎丁啉，為白色混懸液，味甜，用于消化不良、腹脹、噯氣、惡心、嘔吐、腹部脹痛。對于混懸液藥劑的制備國家有嚴格的規定：藥物本身的化學性質應穩定，在使用或貯存期間含量應符合要求；混懸劑中微粒大小根據用途不同而有不同要求；粒子的沉降速度應很慢、沉降后不應有結塊現象，輕搖后應迅速均勻分散；混懸劑應有一定的粘度要求。
混懸液中的微粒大小是不均勻的，大的微粒總是迅速沉降，細小微粒沉降速度很慢，細小微粒由于布朗運動，可長時間懸浮在介質中，使混懸液長時間地保持混懸狀態。制備混懸液時，應使混懸微粒有適當的分散度，粒度均勻，以減小微粒的沉降速度，使混懸液處于穩定狀態。傳統的混懸液生產都是采用普通膠體磨，轉速只有3000rpm，生產出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產生絮凝，影響藥效和使用，為此有醫藥廠家在考察了國內的設備之后，放棄了具有極度價格優勢的國內設備，來詢問低能耗、高轉速、極精密定轉子、研磨細的上海CIK高速膠體磨。該設備轉速達到14000RPM，這可以通過變頻調速通過皮帶加速來實現。(轉速是普通分散設備3-4倍，研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細度更小，效果更好)混懸液膠體磨NK2000三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。
多潘立酮混懸液高剪切膠體磨NK2000采用了三級錯齒磨頭定轉子，磨頭定轉子間隙在0.2-0.7之間，間隙可通過調節高速研磨機本身的調節柄來調節設備間隙，在轉速不變的情況下，間隙越小，速膠體磨研磨、分散效果會越好。故名思意，高速膠體磨有著非比尋常的轉速，CIK工程師們通過改變皮帶輪的傳動比例，使原本只有3000rpm的電機，經過傳動后設備轉速可以高達9000rpm。實踐證明，在磨頭定轉子間隙不變的情況下，轉速越高，高速研磨機研磨、分散效果越好。如果客戶想要使物料達到更好的效果，我們提供丹弗斯變頻器供客戶選擇，高速膠體磨在變頻后轉速可以達到14000rpm，是國內設備轉速的4-5倍，可謂是極速。混懸液膠體磨NK2000結構機理：由電動機、連接體、磨頭等組成，磨盤采用優質不銹鋼鍛壓制成，磨盤表面有三個以上溝槽，分為三級。每一級的溝槽刀齒數量、方向及寬度不同，越是向外延伸一級，磨片精度越高、齒距越小、線速度越長、物料越磨越細、刀齒的數量越多、剪切面越大、線速度越長、流體速度越快、細化效果越好。機械密封分：硬質內裝機械密封、外裝雙面硬質機械密封、金屬波紋硬質機械密封等三種密封可選。磨盤刀齒根據需要可以進行特殊氮化處理，增強刀齒的硬度，起到更耐磨、耐腐蝕的作用。轉磨與定磨可根據物料粘度、產量、顆粒細度進行手工調節，其功效為剪切率大、線速度長、*、處理量大、均質細化效果好。
一、轉速和剪切速率：
CIK膠體磨，可選擇德國機械密封，轉速可以達到15000轉
F=23/0.7X1000=32857S-1
F=40/0.7/X1000=57142S-1
國內膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉，大約在14293-215440S-1
通過轉速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍。
二、膠體磨頭和間距：
CIK膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，NK膠體模塊，NKO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續粉液混合模塊，間距可調，可實現1-10微米小粒徑材料加工。
國內膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復性差。
三、機械密封：
CIK膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉。
國內膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀。
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